| 公司名稱 | 台灣日立化成國際股份有限公司 |
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| 辦事處位置 | 台北市中山北路二段96號嘉新大樓6樓606室 |
| 電話 | +886-2-2581-3632 |
| 傳真 | +886-2-2521-7509 |
| 成立日期 | 2004-2-12 |
| 事業介紹 | 電子相關產品,化學相關產品的進出口及販賣 |
| 更多資訊 |
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這是一種封裝材料,可以用來保護半導體晶片免受不良的溫度、濕度、灰塵、物理衝擊等的影響。同時,可以實現半導體封裝的多樣化,並且有利於環境保護。另外,還可以根據客戶的需要,提供其滿意的產品。

日立化成為世界之先驅,首先開發Display回路接續用之材料。藉由導電粒子分散於接著劑中,同時具有導電性與絕緣性,多數之微細電極可以一併被接續導通,廣泛被應用於電腦、手機、液晶/電漿電視等等。

玻纖布經過環氧樹脂之含浸製程後,於兩側壓合上銅箔所製成之銅箔基板。此銅箔基板優於一般的FR4,實現了高耐熱性和低吸水性等特性。

在製造印刷電路板時,貼付於銅箔基板上用來形成回路的乾膜狀感光性材料。其具有高感度、高解析度,能再現出高密度的回路圖像,同時也具有良好的密著性及高tenting能力。

CMP(化學機械研磨液)被應用於化學機械平坦化製程 研磨絕緣層和金屬線 以期將凹凸處去除來達到高度平坦化的要求.有Cerium slurry其可將研磨刮傷減到最少並在STI(Shallow Trench Isolation)層達到最佳平坦化。之外,尚有最先進的Barrier slurry運用於銅配線端。

FH系列是一種包含晶圓切割以及黏晶功能的二合一膠帶。針對晶圓背面僅需要一次的貼合動作,晶圓切割,黏晶一體成形膠帶FH系列不僅可以減少顧客端的製程,對於薄型晶圓的操作也更為容易。
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